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薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响
[发布日期:2012-12-21  点击次数:1524]
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摘要:李  雪,余  忠,孙  科,李金龙,黄晓东,兰中文
(电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都 610054)

摘  要:采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
关键词:射频磁控溅射;Ni-Zn铁氧体薄膜;薄膜厚度;磁性能
中图分类号:TM277; O484.4+3       文献标识码:A       文章编号…
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